[直写]
- 中国首台自主研发的“光刻机”在合肥面世
- 国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。记者从芯硕半导体公司了解到，该公司此项技术投入资金5000万元，历经一年时间，两台光刻机已于去年12月正式下线，其分辨率已达到0.65微米。
- 关键词 : 亚微米 直写 光刻机 自主研发 自主知识产权 半导体公司 掩膜 半导体技术 中国工程院 向高端
- 中国首台自主研发的“光刻机”在合肥面世
- 国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。记者从芯硕半导体公司了解到，该公司此项技术投入资金5000万元，历经一年时间，两台光刻机已于去年12月正式下线，其分辨率已达到0.65微米。
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- 国内首款自主知识产权的直写式光刻机问世
- 12月25日，国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机在合肥问世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。图为科研人员展示一张刻有电子芯片电路图的成品晶元。
- 关键词 : 光刻机 自主知识产权 晶元 直写 亚微米 电路图 电子芯片 科研人员 12月 世界领先
- 国内首款自主知识产权的直写式光刻机问世
- 12月25日，国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机在合肥问世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。图为科研人员展示一张刻有电子芯片电路图的成品晶元。
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- 国内首台自主知识产权光刻机将在合肥面世
- 国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将在合肥面世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。芯硕半导体公司生产的直写式光刻机具有中国自主知识产权，将为中国光刻机技术的发展奠定坚实基础。
- 关键词 : 光刻机 自主知识产权 直写