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高通:骁龙820采用14纳米工艺 散热性能没问题

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针对部分媒体关于“骁龙820处理器仍然存在发热现象”的报道,高通今天下午官方发表声明辟谣。高通方面称,近期部分媒体报道中关于骁龙820性能的传闻是不实消息。

周雅 来源:CNET科技资讯网 【原创】 2015年10月29日

关键字:高通 骁龙820 处理器

CNET科技资讯网 10月29日 北京消息(文/周雅):针对部分媒体关于“骁龙820处理器仍然存在发热现象”的报道,高通今天下午官方发表声明辟谣。高通方面称,骁龙820处理器所有的IP模块均实现了提升和增强,并将采用第二代14纳米制程工艺制造。

据悉,搭载骁龙820处理器的终端将于2016年一季度面市。

Qualcomm官方声明如下:

近期部分媒体报道中关于骁龙820性能的传闻是不实消息。骁龙820处理器所有的IP模块均实现了提升和增强,并将采用第二代14纳米制程工艺制造。骁龙820达到了我们全部设计指标。更为重要的是,骁龙820满足了OEM厂商对其终端散热和性能规格的要求。

Qualcomm

 



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